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| 真空蒸發(fā)鍍膜的工作原理？ |
| 發(fā)布時間：2014-07-24 瀏覽： 次 |
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真空蒸發(fā)鍍膜(簡稱蒸鍍)是PVD技術中發(fā)展最早，應用較為廣泛的鍍膜技術。 盡管后來發(fā)展起來的濺射鍍和離子鍍在許多方面要比蒸鍍優(yōu)越，但真空蒸發(fā)技術仍有許多優(yōu)點，如設備與工藝相對比較簡單，即可沉積非常純凈的膜層，又可制備具有特定結構和性質的膜層等等，仍然是當今非常重要的鍍膜技術。 近年來由于電子轟擊蒸發(fā)，高頻感應蒸發(fā)以及激光蒸發(fā)等技術在蒸發(fā)鍍膜技術中的廣泛應用，使這一技術更趨完善。 將膜材置于真空室內的蒸發(fā)源中，在高真空條件下，通過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，當蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后，蒸氣的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的沖擊與阻礙，可直接到達被鍍的基片表面上，由于基片溫度較低，便凝結其上而成膜。 為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力，對基片進行適當?shù)募訜峄螂x子清洗使其活化是必要的。 真空蒸發(fā)鍍膜從物料蒸發(fā)輸運到沉積成膜，經歷的物理過程如下： ①采用各種能源方式轉換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能量(0.1～0.3eV)的氣態(tài)粒子(原子、分子或原子團); ②離開膜材表面，具有相當運動速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面; ?、鄣竭_基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長成固相薄膜; ?、芙M成薄膜的原子重組排列或產生化學鍵合。 相關閱讀 |
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